| 題名 | 両面スパイラル金属パターンによるシングルネガティブ異方性媒質の単位セルの小型化について |
| 著者 | *永井 翔太郎, 真田 篤志, 山本 綱之, 久保 洋, 小寺 敏郎 (山口大学大学院理工学研究科) |
| Page | p. 175 |
| Keyword | メタマテリアル, シングルネガティブ, 異方性, バックワード, ミリ波 |
| Abstract | 近年, ミリ波帯でのメタマテリアル応用が研究されており, 半導体チップ上への2次元CRLH構造の実現等が検討されている. 我々は現在, シングルネガティブ異方性媒質におけるバックワード波伝搬の研究を行っているが, これは誘電率と透磁率とを共に負としなくともバックワード波伝搬が可能となるため, 双方同時の負を必要とするCRLH構造に比べ設計が容易であるという利点がある. 今回, ミリ波帯でバックワード波伝搬動作する2次元スパイラルシングルネガティブ異方性媒質の提案, 解析的検討を行った. |
| 題名 | 六方格子状に配置した金属パターン付き誘電体柱で構成される左手系媒質の特性 |
| 著者 | *福嶋 崇嗣, 久保 洋, 真田 篤志, 小寺 敏郎, 山本 綱之 (山口大学大学院理工学研究科) |
| Page | p. 176 |
| Keyword | 左手系媒質, 2次元, 異方性, 六方格子 |
| Abstract | 2次元左手系媒質として金属パターン付き四角柱を正方格子状に配置した構造が提案されている．しかし，異方性が強く波の伝搬方向により特性が異なる．本発表では円柱誘電体を六方格子状に配置することで，構造的に異方性の弱い2次元左手系媒質を提案する． |
| 題名 | 微細加工を用いた赤外領域用平行導体型粒子作製プロセスの基礎的検討 |
| 著者 | *中村 彰宏, 長尾 達也, 浅田 裕法, 大山 陽平, 久保 洋 (山口大学大学院理工学研究科) |
| Page | p. 177 |
| Keyword | 人工媒質, 微細加工, リソグラフィー |
| Abstract | 平行導体型粒子を用いた人工媒質においては共振周波数を調整することで阻止帯域をつくることができる。本研究では、赤外領域に阻止帯域をもつ平行導体型粒子構造の作製プロセスについて検討を行なった。下層導体パターンを電子線直接描画およびウェットエッチングにより形成したところ、設計値1.1×3.1 μmに対して1.11×3.05 μmとほぼ近い値であった。次に中間層のCaF2膜をスパッタ法により成膜した。その後、下層のAuパターンをマスクとした光学露光を行なうことで目合わせフリーな上層導体パターンの形成を行ったが、下層パターンに比べかなり太ったパターンとなった。 |
| 題名 | 臨界角入射における平面波の反射・透過に関する検討 |
| 著者 | *石間 克郎, 琴森 直也, 若林 秀昭, 稲井 寛 (岡山県立大学情報工学部) |
| Page | p. 178 |
| Keyword | 臨界角入射, 平面波, 行列固有値, ジョルダン標準型 |
| 題名 | 抵抗分布が周期的に変化する平板格子における等価抵抗の有効性 |
| 著者 | *松村 進也, 若林 秀昭, 稲井 寛 (岡山県立大学 情報工学部) |
| Page | p. 179 |
| Keyword | 等価抵抗, 周期的抵抗分布, 一様近似式 |
| 題名 | 斜め入射による誘電率変調型格子の散乱解析 |
| 著者 | *若林 秀昭, 山北 次郎 (岡山県立大学情報工学部) |
| Page | p. 180 |
| Keyword | 斜め入射, 誘電率変調型格子, Inverse Rule, 構造性複屈折近似, 電磁束密度展開法 |