2005年10月22日(土) |
題名 | Ge1-xMnxTe微小細線の作製と磁気抵抗効果 |
著者 | *森本 一幸 (山口大), 福間 康裕 (山口県産業技術センター), 浅田 裕法, 小柳 剛 (山口大) |
Page | p. 433 |
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題名 | PLD法で作製したZnxCd1-xS薄膜の光学測定 |
著者 | *中村 亮仁, 酒井 恒 (広島国際学院大) |
Page | p. 434 |
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題名 | 非対称な人工ピンニングセンターによるピン止め特性の検討 |
著者 | *萩原 雅之, 何 継方, 原田 直幸, 内藤 裕志 (山口大) |
Page | p. 435 |
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題名 | 微細加工により導入した溝状人工ピンの磁化緩和特性 |
著者 | *中川 貴文, 安田 俊朗, 原田 直幸, 内藤 裕志 (山口大) |
Page | p. 436 |
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題名 | Mgフレークを用いたin-situ法MgB2テープ線材の作製 |
著者 | *日野 保明, 武政 博行, 原田 直幸, 内藤 裕志 (山口大), 三浦 大介, 伊藤 大佐 (首都大学東京) |
Page | p. 437 |
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