平成17年度 電気・情報関連学会中国支部第56回連合大会

2005年10月22日(土)

部門: 2. プラズマ・放電・高電圧 III (14:30 - 15:48)
部屋: 1号館 01211 (→地図)
座長: 田中 武 (広島工大)

2-12 (時間: 14:30 - 14:43)

題名	NBI用ECR負イオン源内における負イオン生成へのAr添加効果
著者	*大塚 真由美, 酒井 拓馬, 福政 修 (山口大)
Page	p. 80
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2-13 (時間: 14:43 - 14:56)

題名	NBI用高周波負イオン源の開発（II）　−磁気フィルターの磁場強度依存性−
著者	*田内 康, 大野 淳一郎, 福政 修 (山口大)
Page	p. 81
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2-14 (時間: 14:56 - 15:09)

題名	電子ビーム入射型直流放電プラズマのプラズマパラメータ制御
著者	*井藤 大輔, 中田 直樹, 福政 修 (山口大)
Page	p. 82
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2-15 (時間: 15:09 - 15:22)

題名	グリッドバイアス法を用いたＲＦ放電プラズマのプラズマパラメータ制御
著者	*中尾 勇一, 大野 淳一郎, 小田 真嗣, 田内 康, 福政 修 (山口大)
Page	p. 83
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2-16 (時間: 15:22 - 15:35)

題名	グリッドバイアス法を用いたRF放電プラズマによる負イオン生成
著者	*大野 淳一郎, 中尾 勇一, 小田 真嗣, 田内 康, 福政 修 (山口大)
Page	p. 84
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2-17 (時間: 15:35 - 15:48)

題名	層流プラズマ溶射により作成したTi膜の評価
著者	*藤本 聡, 大崎 堅, 福政 修 (山口大)
Page	p. 85
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