2005年10月22日(土) |
題名 | NBI用ECR負イオン源内における負イオン生成へのAr添加効果 |
著者 | *大塚 真由美, 酒井 拓馬, 福政 修 (山口大) |
Page | p. 80 |
keywords | NBI用ECR負イオン源, 振動励起分子, Ar添加 |
題名 | NBI用高周波負イオン源の開発(II) −磁気フィルターの磁場強度依存性− |
著者 | *田内 康, 大野 淳一郎, 福政 修 (山口大) |
Page | p. 81 |
keywords | 高周波プラズマ源, VHF, 磁気フィルター, 負イオン源, 水素 |
題名 | 電子ビーム入射型直流放電プラズマのプラズマパラメータ制御 |
著者 | *井藤 大輔, 中田 直樹, 福政 修 (山口大) |
Page | p. 82 |
keywords | 衝突緩和現象, グリッド負バイアス法 |
題名 | グリッドバイアス法を用いたRF放電プラズマのプラズマパラメータ制御 |
著者 | *中尾 勇一, 大野 淳一郎, 小田 真嗣, 田内 康, 福政 修 (山口大) |
Page | p. 83 |
keywords | 高周波放電, グリッドバイアス法 |
題名 | グリッドバイアス法を用いたRF放電プラズマによる負イオン生成 |
著者 | *大野 淳一郎, 中尾 勇一, 小田 真嗣, 田内 康, 福政 修 (山口大) |
Page | p. 84 |
keywords | NBI加熱装置, 負イオン源, RF放電プラズマ, グリッドバイアス法 |
題名 | 層流プラズマ溶射により作成したTi膜の評価 |
著者 | *藤本 聡, 大崎 堅, 福政 修 (山口大) |
Page | p. 85 |
keywords | 層流プラズマジェット, 乱流プラズマジェット, アークプラズマ |