| 題名 | ツインカソード型プラズマトーチ内の十字状アークの特性 |
| 著者 | *山田 裕幸, 有田 雄一, 崎山 智司 (山口大学大学院 理工学研究科), 北村 智昭 (中国電力) |
| Page | p. 522 |
| Keyword | プラズマ, 溶射 |
| Abstract | 本研究では、ツインカソードトーチ内の十字状アークの特性を明らかにすることを目的とし、作動ガスやアーク電流等の溶射パラメーターが十字状アークの電気的特性、熱的特性、挙動に及ぼす影響について検討した。電圧−電流特性は、通常型アークと同様に垂下特性を示したが、作動ガスによるアークの収束効果は通常型のトーチと異なり、ツインカソードトーチでは陰極から送給する作動ガスを増加するとアーク電圧が低下することが分かった。 |
| 題名 | ツインカソード型プラズマトーチを用いたイットリア溶射膜の作成 |
| 著者 | *有田 雄一, 山田 裕幸, 崎山 智司 (山口大学大学院理工学研究科), 北村 智昭 (中国電力) |
| Page | p. 523 |
| Keyword | プラズマ, 溶射, イットリア |
| Abstract | これまでアキシャルフィード法による材料供給が可能なツインカソード型プラズマトーチについて研究を行ってきており、トーチのアーク特性や材料送給ガスがアークに及ぼす影響等について明らかにしてきた。本報告では、ツインカソード型トーチの溶射装置への応用可能性を明らかにするために、アキシャルフィード法とサイドフィード法により作製した溶射膜について検討する。 |
| 題名 | 層流プラズマジェットを用いたシリカガラス膜の合成 |
| 著者 | *安井 誠治, 中谷 俊樹, 崎山 智司 (山口大学大学院理工学研究科) |
| Page | p. 524 |
| Keyword | プラズマ, 溶射 |
| Abstract | 本研究では、基板表面の均一なシリカガラス膜を合成することを目的とする。均一な膜を溶射によって合成するためには、溶射中材料に多くの熱を加えることが重要と考えられる。そこで、層流プラズジェットと呼ばれる熱伝達率が高いプラズマジェットで溶射し、膜を測定することで均一なガラス膜に有用であるか検討した。 |
| 題名 | モノクロCCDカメラによる溶射粒子の温度・速度の同時計測 |
| 著者 | *中谷 俊樹, 崎山 智司 (山口大学大学院理工学研究科) |
| Page | p. 525 |
| Keyword | プラズマ, 溶射 |
| Abstract | 本研究では、溶射粒子の温度及び速度の同時計測法を開発することを目的とし、2分岐光学系とモノクロCCDカメラを用いた計測法について検討する。 |
| 題名 | プラズマ支援触媒イオン化による水素正負イオンの生成と引出特性 |
| 著者 | *日比野 徳亮, 樋口 剛史, 大原 渡 (山口大学 大学院 理工学研究科) |
| Page | pp. 526 - 527 |
| Keyword | プラズマ支援触媒イオン化, 電気陰性度 |
| Abstract | 核融合プラズマ加熱において，負イオン型中性粒子入射加熱は重要な技術である．セシウムフリーで高い負イオン電流密度を達成するべく，プラズマ支援触媒イオン化法を用いた新規の負イオン源の開発を行っている．ここで，触媒作用における解離吸着，表面移動，および脱離イオン化のプロセスを経て水素正負イオンが生成される．脱離イオン化において，負イオンの生成確率を高めるために，触媒金属の電気陰性度に注目している．触媒材質（電気陰性度）の変化に伴い，負イオン生成特性の変化について発表する予定である． |
| 題名 | 水素混合ヘリウムホロー陰極放電の発光分光測定 |
| 著者 | *山崎 勉 (呉工業高等専門学校) |
| Page | p. 528 |
| Keyword | 高気圧放電, ホロー陰極, 気体温度, 電子密度, 水混合ヘリウム |
| Abstract | 数十kPaの気圧領域でグロー放電が得られる直径0.5mm長さ3mmの黄銅製ホロー陰極により生成されるプラズマの気体温度と電子密度(電子温度1eVを仮定)を測定した。発光分法によりヘリウムおよび水素原子のスペクトル線形とその広がり幅を解析して各量を導出した。1%水素混合したヘリウム気体を使用し、電流依存性を得た。 42 kPaで放電電流10 mAから80 mAの範囲では気体温度(330 -650 K)と電子密度(0.7-4×1014cm-3は電流に比例して増加した。 |