| 題名 | 負イオン体積生成の高効率化とプラズマ制御 |
| 著者 | *上平 康弘, 井藤 大輔, 福政 修 (山口大学大学院 理工学研究科) |
| Page | p. 1 |
| Keyword | 磁気フィルター, グリッド |
| Abstract | 我々は、負イオン源内のプラズマの制御法として、従来の磁気フィルター法に代わる制御法として考えられているグリットバイアス法2)によりプラズマパラメータを制御し、負イオン生成を高効率化する事を目標としている。本研究ではグリッドバイアス法と磁気フィルター法によるプラズマ制御、負イオン引出し電流について比較検討を行った。 |
| 題名 | グリッドバイアス法によるRF負イオン源の高効率化 |
| 著者 | *岡田 純一, 中尾 勇一, 田内 康, 福政 修 (山口大学大学院 理工学研究科) |
| Page | p. 2 |
| Keyword | RF負イオン源, 電子温度制御, グリッドバイアス法 |
| Abstract | 核融合プラズマの加熱装置であるNBI装置の心臓部である負イオン源について研究を行っている。核融合装置の長時間連続運転の実現のために、高周波放電を用いた負イオン源の開発が期待されている。体積生成型負イオン源における水素負イオンの形成過程は2段階過程になっており、この2段階過程において最適電子エネルギーが大きく異なるため、電子エネルギー分布を空間的に制御することは重要である。これまで磁気フィルターによるRF放電プラズマのプラズマパラメータ制御を検討してきたが、制御効果はあまり見られなかった。そこでRF放電プラズマの制御法としてグリッドバイアス法を用い、負イオン源へ応用できないか検討している。 |
| 題名 | NBI用高周波負イオン源の開発(��) -水素・重水素の比較- |
| 著者 | *田内 康, 好岡 利樹, 福政 修 (山口大学大学院 理工学研究科) |
| Page | p. 3 |
| Keyword | VHF, プラズマ, 高周波, 負イオン, 重水素 |
| Abstract | 将来、核融合発電を行うためには長時間の運転が必要とる。核融合を行うためには加熱が必要であり、実験においてNBI加熱装置が信頼性が高く評価されている。しかしながら、現在のNBI加熱装置は直流放電を用いた負イオン源を使用しており長時間運転ができない。そこで、我々は高周波放電を用いた負イオン源の開発を行っている。本報告では、重水素を用いた負イオン生成について実験を行ったので報告する |
| 題名 | 重水素負イオン生成の高効率化 |
| 著者 | *森 成史, 福政 修 (山口大学大学院 理工学研究科) |
| Page | p. 4 |
| Keyword | 負イオン, 重水素, プラズマ, 直流放電 |
| Abstract | 現在、もっとも実現可能な核融合の反応はD-T反応である。これまで核融合炉実現に向けて、重水素の同位体である水素を用いて基礎研究が行われ、様々な実験結果が構築されてきた。今回は重水素ガスによるプラズマ生成と負イオン引き出しの実験を行った。そこで、本報告は水素と重水素での負イオン生成についてプラズマパラメータ、負イオン密度、負イオン引出しの相違について検討を行う。 |
| 題名 | 体積生成型負イオン源内での高速一次電子の振舞と負イオン生成高効率化 |
| 著者 | 森 成史 (山口大学大学院 理工学研究科), 吉満 健 (山口大学 工学部), *福政 修 (山口大学大学院 理工学研究科) |
| Page | p. 5 |
| Keyword | 高速電子, 負イオン源 |
| Abstract | 水素放電プラズマ中のHｰ負イオン体積生成は、�／尭偉綉�分子H2(v”)生成過程（20eV以上のエネルギーを持つ高速一次電子と水素分子との衝突過程）と��負イオン形成過程（1eV程度のプラズマ電子とH2(v”)との解離付着過程）の２段階過程になっている。核融合プラズマの加熱装置（NBI）に用いられる負イオン源では、磁場を用いてイオン源内の電子エネルギー分布（電子温度）を制御し、負イオン生成の高効率化を図っている。私どもも負イオン体積生成の高効率化を実験的に検討しており、それらと比較をするために高速一次電子がHｰ生成高効率化にどのように関わるかを数値解析により検討しているのでその結果を報告する。 |
| 題名 | 定在波重畳法による大面積VHFプラズマ源の開発 |
| 著者 | *好岡 利樹, 大塚 真由美, 田内 康, 福政 修 (山口大学大学院 理工学研究科), 村田 正義 (Advanced Plasma Technologies) |
| Page | p. 6 |
| Keyword | 定在波重畳法, VHFプラズマ |
| Abstract | VHF帯域の放電プラズマは、高密度かつ低電子温度という特性を持つ。しかし、電極サイズの増大に伴い電力供給線路及び電極に定在波が発生すること、及び表皮効果に起因するインピーダンスの増大などにより電極間の電界分布が一様にならず不均一になることにより、大面積かつ均一なVHFプラズマを生成することは困難だと考えられている。そこで問題を解決する方法の一つとして、複数の定在波を電極間に生成し、その定在波を重畳することで大面積かつ均一なVHFプラズマを生成する定在波重畳法という方法が挙げられる。 本研究では、電源周波数200MHzの高周波電源により定在波重畳法を用いて均一なプラズマを生成し、大面積なVHFプラズマ源への応用について詳細に検討した。 |